双重曝光效果是一个集艺术性和美丽性于一体的创意图像技术，不论是摄影照片，还是视频影像，在双重曝光的作用下，都会呈现出不一样的画面效果。这款双重曝光创建器在实现这种效果的同时，提供了非常简单、易于编辑、修改的参数和属性调节工具。
导入图片并进行抠像处理后，mask蒙版的角度、位置、B&W强度、渐变覆盖、背景透明度等多个属性都是可以进行调节的。当然研究它的制作方法才是重中之重。强烈推荐学习！
默认的预览版可以添加32张摄影图片内容+34段文本内容，掌握制作方法后，完全可以进行更多内容的再创作和添加。
【版本要求】
建议使用10.5（AE CS5.5）或更高的AE版本打开
【插件要求】
需要Plexus插件，新CG儿AE插件网地址是//www.newcger.com/aechajian/?p=263
另外压缩包内还包含了无需插件的No_Plugin版
【模板尺寸】
3840*2160
【时间长度】
预览版时长1:24，可自定义
【文件大小】
543M
【预览】
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